第428章 上门投靠 (3/4)

这是一场与“熵”的战斗。为了维持那一束光的稳定，背后是无数套复杂的温控、电控系统在疯狂运转。

光强够了，光路稳了。

但在连续运行了24小时后，一个新的问题出现了。

“光功率在衰减。”

王海冰看着监控曲线。

“每小时衰减1%。照这个速度，三天后就没光了。”

“去检查镜片。”

工程师打开真空管道，取出了反射镜。

所有人倒吸一口凉气。

原本晶莹剔透的镜片表面，覆盖了一层薄薄的、黑色的物质。

“是碳。”张教授用光谱仪测了一下。

“哪里来的碳？”林远问，“我们的管道是超高真空uhv，10的负9次方帕。怎么会有碳？”

“光化学污染。”

汉斯叹了口气。

“真空系统里，不可避免地会有微量的有机挥发物vocs。比如密封圈释放的烷烃、泵油的蒸汽。”

“在193nm高能光子的轰击下，这些有机分子会发生裂解，碳原子沉积在镜片表面，形成石墨层。”

“石墨对紫外光是强吸收的。这层膜越厚，吸收越强，镜片越热，最后炸裂。”

这是深紫外光学系统的癌症。asml当年为了解决这个问题，花了整整五年。

“换金属密封圈？换无油泵？”王海冰问。

“没用。哪怕是一个分子的有机物，时间长了也会累积。”

“不能防，只能洗。”

林远提出了方案。

“我们不能每次都把镜子拆下来洗。那样光路又要重新调。”

“我们要搞原位清洗。”

“在每个反射镜仓里，安装一个射频等离子体发生器。”

“当我们不曝光的时候，向仓内通入微量的氧气。”

“激发氧等离子体。”

“活性氧原子o会与镜片上的碳发生反应，生成二氧化碳气体，被真空泵抽走。”

“这叫光刻机的透析。”

风险就是氧等离子体如果不控制好，会连同镜片上的镀膜一起腐蚀掉。

“汪总，这又需要你的算法了。”

“根据碳沉积的速率，精确控制清洗时间和功率。多一秒伤膜，少一秒洗不净。”

一个月后。

所有子系统就位。

高反射率氟化物膜、主动稳像fsm系统、原位等离子清洗系统。

“全系统联调。”

林远站在光刻机车间。

50米外，地下掩体里，ssmb光源全功率输出。

“光闸打开！”

一道看不见的深紫外光束，穿过了漫长的真空管道，在8面反射镜上跳跃、折射。